技術
百度 谷歌 雅虎 必應 搜狗 搜搜
公司 產品 導購 樣本 名片 視頻 圖片 新聞 技術 黃頁
⑵ 工藝流程和條件:半制品→預處理→底涂→烘干→第二次涂遮光層→烘干→第三次涂表層→烘干 工藝條件:預處理,預防水(處方同前),烘干或平軋光。 涂層: 底涂:用浮刀法銳角刮刀。 第二次遮光層:用浮刀法圓形刮刀,必要時可重復一次。 第三次表層:用浮刀法銳角刮刀。 烘干:90~100℃。