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印染行業(yè)是工業(yè)廢水排放大戶，印染廠每生產100 米織物，平均產生廢水 3～5 m3，全國印染廢水排放量約 300～400 萬 m3/d。印染廢水的典型特征是有機物濃度高、可生化性差、色度深、成分復雜，廢水中含有染料、漿料、助劑、酸、堿、纖維雜質及無機鹽等，染料中的硝基和胺基化合物及銅、鉻、砷等重金屬元素具有較大的生物毒性，屬難降解有機廢水，因而對印染廢水的有效處理一直是工業(yè)廢水治理的研究熱點之一。 1 國內印染廢水處理現(xiàn)狀 目前國內工程實踐中對印染廢水的處理主要采用以生化法（厭氧 - 好氧系統(tǒng)）和物化法（混凝沉淀或氣浮）為主體的二級處理工藝，具有技術成熟、操作管理簡便、運行費用較低等優(yōu)點。然而，近年來印染行業(yè)技術革新日新月異，普遍采用堿減量工藝，人工合成聚乙烯醇(PVA)漿料和各種難降解、抗氧化的助劑大量使用，印染廢水有機物濃度大幅上升，可生化性進一步變差，使得原先可以達到處理要求的傳統(tǒng)二級處理工藝處理效果削弱，難以達標排放。據(jù)調查，近幾年大部分印染廢水生化處理的 COD 去除率由以前的 70%下降到 50%甚至更低，脫色效果差更是其薄弱環(huán)節(jié)。混凝處理對廢水中的親水性污染物去除率較低，處理效果也難以保證。活性炭吸附、膜分離等深度處理工藝存在處理成本高、活性炭失活、膜污染等問題，且僅僅將污染物分離轉移，并沒有實現(xiàn)真正降解。有鑒于此，研究開發(fā)簡便、高效的強化前處理或深度處理工藝成為印染廢水治理的當務之急。 2 印染廢水的光化學氧化處理 光化學氧化技術屬于高級氧化工藝，是新興的現(xiàn)代水處理技術，該技術通過氧化劑（O3、H2O2 等）在紫外（或可見）光的激發(fā)和催化劑（Fe2+、Fe3+、半導體等）的催化作用下，產生具有強氧化性的羥基自由基 （?OH），?OH 的標準氧化電位達 2.8eV，是除元素氟以外最強的氧化劑，能無選擇地將絕大多數(shù)有機物徹底氧化成 CO2、H2O 和其它無機物，

反應速度快，耗時短，反應條件溫和（常溫、常壓），操作條件易于控制，無二次污染。印染廢水中染料的顏色來源于染料分子的共扼體系- 含不飽和基團-N=N-、>C=C<、-N=O、>C=O 等的發(fā)色體，光化學氧化產生的?OH 能夠有效打破共扼體系結構，使之變成無色的有機分子，并進一步礦化為 H2O、CO2 和其他無機物質。光化學氧化工藝上的特點和染料的分子結構特征決定了光化學氧化技術在印染廢水處理方面具有其他工藝所無可比擬的優(yōu)勢。 近年來，國內外學者在光化學氧化技術處理印染廢水方面進行了大量的試驗研究和理論探索，主要集中在以下幾個方面。